为什么要使用真空扩散炉？

扩散是分子从高浓度区域移动到低浓度区域的过程。在日常生活中，它通常在液体，气体和固体之内和之间发生。真空扩散炉利用了这一过程，真空扩散炉提高了工件的温度并引入了气态元素以促进固态扩散。当物质的分子与主体固体在原子水平上混合时，就会发生固态扩散。多年来，这种扩散机制一直是科学的好奇心，但此后已成为半导体制造中不可或缺的过程。

什么是真空扩散炉？

真空扩散炉是具有圆柱形加热室的热处理单元，该加热室可以水平或垂直定向。由于等距的表面散热，这使得圆形工件能够以出色的热均匀性进行加工。它们还可以在部分真空条件下工作，以确保在整个操作过程中严格控制气氛。这对于确保气相扩散到固态半导体而不引入不希望的杂质的最佳条件至关重要。

掺杂剂和半导体

当半导体晶片在真空扩散炉中处理时，将其加热到设定温度以内，并经历称为气相的气态分子流。该相在原子级扩散到固体基质中，这一过程称为掺杂。像硅（S）这样的半导体在绝缘体和导体之间显示出独特的电子特性。引入掺杂剂以调节那些电子特性并使它们适合于半导体器件制造。它们扩散到晶格中并被固定在原子结构内，从而形成电子或电子空穴的过量或不足。这就是改变半导体晶片的电导率的原因。诸如磷（P）之类的元素通常用于增加晶片原子结构中的自由电子数量，从而形成所谓的n型半导体。相反，镓（Ga）可用于引入电子受体，从而产生额外的电子空穴能级。这是n型半导体。n型和p型半导体之间的功能差异千差万别，目前使用的和正在探索中的，作为本征半导体的掺杂剂的化学变化也是如此

南京威途的真空扩散炉

在南京威途，我们专注于真空扩散炉的隔热和圆形加热元件的开发。我们提供的颈圈，圆盘和前庭块由填充有编织二氧化硅的陶瓷纤维组成，可以根据不同的客户规格确定尺寸和形状。这些适用于各种真空扩散炉工艺的极高工作温度。